光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)進(jìn)階篇之繞射光學(xué)

　　一般而言，繞射光學(xué)談的是那些利用參考光的波長下定出的週期性結(jié)構(gòu)的光學(xué)文件，這些文件可以改變光的行進(jìn)方向。繞射光學(xué)的基本塬理作探討并強(qiáng)調(diào)目前繞射光學(xué)元件的重點(diǎn)發(fā)展。事實(shí)上，現(xiàn)在對繞射光學(xué)的興趣正重燃之中，主要是因?yàn)槟壳暗难u程(精密鉆石加工，二元光學(xué)及雷射切割系統(tǒng))已經(jīng)可以提供非常一般的繞射光學(xué)表面。

　　第十章 繞射光學(xué)

　　10.1簡介

　　10.2 繞射元件的幾何光學(xué)與波動光學(xué)

　　10.2.1純量繞射分析(Scalar Diffraction Analysis)

　　10.2.2 純量理論的延伸(extended scalar theory)

　　10.3 繞射面的種類(Types of Diffractive Surface)

　　10.3.1線型光柵(linear grating)模型

　　10.3.2全像光學(xué)繞射元件(Optical hologram)

　　10.3.3 相位光柵模型(Phase Model)

　　10.4 相位模型繞射透鏡例子

　　10.4.1近軸性質(zhì)與像差(Paraxial properties and aberrations)

　　10.4.2雷射掃瞄用透鏡(f -θ Scan lens)

　　10.4.3 無色差雙鏡(Achromatic doublets)

　　10.4.4 BK7/繞射雙鏡

　　10.4.5 紅外雙鏡(infrared doublet)

　　10.4.6 目鏡(eyepiece)