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低溫CVD法在玻璃襯底上制備ZnO納米線陣列

上傳人:夏文高、陳金菊、鄧宏

上傳時(shí)間: 2013-06-06

瀏覽次數(shù): 99

作者夏文高、陳金菊、鄧宏
單位電子科技大學(xué)電子薄膜與集成器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
分類號(hào)O614.241
發(fā)表刊物《發(fā)光學(xué)報(bào)》
發(fā)布時(shí)間2010年

  摘要:采用化學(xué)氣相沉積(CVD)法在鍍Cr(20nm)的玻璃襯底上,低溫制備了ZnO納米線陣列。利用掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射(XRD)對(duì)樣品的表面形貌和微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析表征。結(jié)果表明:源分解溫度1350℃,襯底溫度450~500℃,氬氣流量為35sccm時(shí),ZnO納米線在玻璃襯底上呈現(xiàn)有序生長;XRD譜圖中只觀測(cè)到ZnO(002)衍射峰。表明制備的納米線陣列具有高度c軸擇優(yōu)取向生長特性和較高的結(jié)晶質(zhì)量。

  近年來,基于一維納米結(jié)構(gòu)如納米線、棒、帶和管在載流子的注入與傳輸方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)和更適于納米尺度器件的制備,而受到越來越多的關(guān)注[1~3]。合成、表征和研究一維納米材料有利于研究低維系統(tǒng)的維度與量子限制效應(yīng)對(duì)系統(tǒng)的電學(xué)、熱學(xué)和機(jī)械性質(zhì)的影響,有助于研究納米尺度電子學(xué)、光電子學(xué)單元器件的功能性質(zhì),有益于開發(fā)出高性能的新一代納米器件。

  基于有序ZnO納米線的電子傳輸性好、合成工藝簡單、成本低、毒性低、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),ZnO納米線陣列在染料敏化太陽能電池光陽極的應(yīng)用研究方面已成為一種重要的材料[4~7]。相對(duì)于高溫下生長的V-L-S(氣-液-固)機(jī)制以金、銀[8]作為催化劑,本文選用Cr作為催化劑,實(shí)現(xiàn)了ZnO納米線陣列的低溫生長。

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